钛表面处理

工作范围:对两侧和一侧的3 x 100mm直径钛晶片进行镜面抛光,使其表面Ra大于0.01µm

第一阶段。研磨工艺-使用的设备:

  • 凯美特研磨/抛光机
  • 铸铁研磨盘
  • 凯美特平面度计
  • 凯莫克斯0-800S

第二阶段。半抛光工艺-使用的设备:

  • 凯美特研磨/抛光机
  • 铸铁研磨盘
  • ASFL抛光布,直径15英寸
  • 凯美特液态金刚石3微米K型金刚石浆料
  • 塑料面控制环

第三阶段。CMP工艺-使用的设备:

  • 凯美特凯姆科尔机器
  • 直径15“的化学-H衬垫
  • Col-k(北卡罗来纳州)
  • 塑料面控制环

研磨过程故障-将打蜡后的晶圆放入控制环中,用Kemox 0-800S运行10分钟,然后用CO-42手动清洗。半抛光-将ASFL抛光垫添加到板中,将打蜡的晶片添加到塑料面控制环中,并与凯美特液体钻石3微米K型一起运行10分钟。化学机械抛光工艺-将Chem-H衬垫添加到板中,并将打蜡的晶片添加到塑料面控制环中。在顶部添加第二个砝码,并在稳定分散Col-K(NC)的情况下运行40分钟。

达到的Ra:0.0080µm. 由于采用打蜡方法,该工艺只能抛光晶圆的一面。

钛表面精整前

钛表面精整前

钛表面后处理

钛表面后处理

工作范围:采用尽可能少的滚磨工艺对钛部件进行镜面抛光

第一阶段

第二阶段

钛的工艺分解

使用PR3板为您提供最佳的板抛光,同时保持边缘美观锐利。与标准的钻石丝绸抛光剂相比,CMP工艺可对表面进行蚀刻,以减少滚花。我们达到了表面光洁度Ra值为0.018µm.1188金宝搏亚洲 .

钛(车削件)加工前

钛加工前

用6微米PR3处理钛后

用6微米PR3处理钛后

用Col-K N/C CMP对钛进行后处理

用Col-K N/C CMP对钛进行后处理

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