化学机械抛光机(CMP)

Kemcol 15机器是化学机械抛光(CMP)的理想选择氧化铈基于抛光应用。该机基于流行的KEMET 15研磨和抛光机,而是将不锈钢元素含有代替涂漆部件的较长寿命,污染自由抛光。它与综合kemet akudisp完全可编程蠕动泵系统一起标准,陶瓷脸部或不锈钢调理环。KEMCOL 15系统最初被开发为医疗领域的超级整理过程,但现在也用于注塑成型工具抛光工业,蓝宝石抛光等。它能够在钴晶系,不锈钢,钛和许多其他材料上生产刮伤的自由镜面。

CMP抛光机

特殊功能:

  • 不锈钢工作台周围抛光垫
  • 抛光不锈钢轭,便于清洁
  • 不锈钢驱动板
  • 铝升降盘系统可选
  • 用于污染抛光的陶瓷面孔或不锈钢调理环
  • Akudisp完全可编程的蠕动泵单元作为标准安装
  • 适用于Kemet磁力抛光垫系统,便于焊盘变化

推荐的kemcol 15配件和耗材

描述 代码
套3个陶瓷面孔调节戒指 361522
不锈钢塑料面对调节戒指 362757
380毫米不锈钢支撑板(用于抛光垫) 362033
380毫米铝升降盘 361001
380毫米铝制驱动板 361002
380毫米薄金属盘(与磁性系统一起使用) 342563
380毫米磁盘 345773
CMP浆料 5升 10升 20升
Col-K. 600212 600238 600204.
Col-K(NC) 600199. 600239 600202
推荐的消耗品 代码
380 mm Chem-H聚氨酯抛光垫 341865.
380毫米PSU-M Chemo-Textile布料 341011
380毫米MRE短的凹陷最终抛光垫 341715.

CMP进程案例研究

测试要求:在铝样品上产生最佳表面处理,在样品中没有磨蚀颗粒。
组件/材料:4缩小½“x 2”铝条

阶段1

机器类型:kemet 15研磨/抛光机
盖板:铸铁
磨料类型/等级:Kemox O-800S氧化铝预混浆料

第2阶段

机器类型:Kemcol 15机器
盖板:MRE短暂的午睡布
磨料类型/等级:COL-K(NC)CMP浆料

过程细分
阶段 板材/布型 磨料类型/等级 过程时间
l 铸铁 kemox o-800s 5分钟
抛光 m Col-K(NC) 80分钟

我们选择了最终抛光的CMP工艺,因为这使用化学作用来抛光组件的表面代替传统的研磨型抛光过程。这意味着铝表面不应该有任何磨料。

使用我们为该部件提供的设置,抛光时间为80分钟。

从该过程中产生RA:RA1.647μinch

在CMP过程之前

在化学机械抛光之前

CMP过程后

化学机械抛光后

相关案例研究化学机械抛光