Col-K抛光悬浮液(CMP浆料)

胶体二氧化硅悬浮液能够在抛光机上生产高质量的镜子抛光剂。胶体二氧化硅的缺点是它可以使溶液结晶。晶体具有腐蚀性作用,可以攻击材料。

用于粗糙的抛光浆料和钴铬 - Col-K

砂磨料,部分化学抛光作用使得Col-K非常适合于抛光诸如乏味和钴铬。用于Kemet Chem Blook的液体抛光剂,在高质量的镜子抛光方面产生最终的终极CMP抛光机

钛抛光浆料 - Col-K(X)

Col-K(X)经过特别开发镜子波兰钛无需任何化学添加剂。

Col-K CMP浆料

在英国制造

产品 尺寸
1升 5升 20升
Col-k,0.09μm 600262 600212 600204.
Col-K(x),0.09μm - 600267 -
Col-K(NC),0.09μm 600261 600199. 600202

非晶体抛光浆料

Kemet开发了下一代胶体二氧化硅 - 一种名为Kemet Col-K(NC)的非晶体版本。这是1,5和20升集装箱中的。

使用胶体二氧化硅的影响

胶体二氧化硅在研磨机上的影响。注意机器上的白色残留物(水晶)。

使用Kemet Col-K的效果

kemet col-k(nc)对kemet 15研磨机的影响。请注意,机器上没有白色残留物。

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