光谱样品制备

由于在过去几年的软件以及OES和XRF器件的快速发展和改善了追踪分析的检测限的快速开发和改进,因此,金属和材料的光谱样品制备越来越重要。使样品适当准备至关重要。样品需要代表性,均匀和均匀的表面,以消除能够影响结果的因素。

光发射光谱(OES)和X射线荧光(XRF)

使用电弧和火花激发的光发射光谱法(OES)是确定金属样品化学成分的优选方法。该过程广泛用于金属制造行业,包括初级生产商,铸造件,压铸师和制造业。由于其快速分析时间和精度,电弧/火花OES系统(Bruker,Thermofisher)最有效地控制合金的加工。该技术可用于生产周期的许多方面,包括即将到来的材料检查,金属加工,半成品和成品的质量控制以及许多需要金属材料的化学成分的其他应用。X射线荧光是确定样本中元素的最通用方法之一。该材料暴露于X射线,导致每个元素发射其独特的荧光X射线。随后的结果分析基于对具有给定化学成分的标准样品的比较。

样品需要代表性,均匀和均匀的表面,以消除能够影响结果的因素。对于实体金属样品的制备,Kemet提供手动和自动样品制备机 - 从小型桌面盘表面研磨机到自动铣床。使用kemet样品制备机,您可以让自己准备好分析。