光谱样品制备

金属和材料的光谱样品制备变得越来越重要,因为在过去几年中,软件以及OES和XRF设备的快速发展和改进改变了痕量分析的检测极限。正确制备样品至关重要。样品必须具有代表性、均匀性和均匀表面,以消除可能影响结果的因素。

光学发射光谱法(OES)和X射线荧光法(XRF)

使用电弧和火花激发的光学发射光谱法(OES)是测定金属样品化学成分的首选方法。该工艺广泛应用于金属制造行业,包括初级生产商、铸造厂、压铸厂和制造业。Arc/Spark OES系统(Bruker、ThermoFisher)由于其快速的分析时间和准确度,在控制合金加工方面最为有效。该技术可用于生产周期的许多方面,包括材料的未来检验、金属加工、半成品和成品的质量控制,以及需要金属材料化学成分的许多其他应用。X射线荧光是测定样品中元素最通用的方法之一。该材料暴露于x射线下,导致每个元素发射其独特的荧光x射线。随后的结果分析基于与具有给定化学成分的标准样品的比较。

样品必须具有代表性、均匀性和均匀表面,以消除可能影响结果的因素。对于固体金属样品的制备,凯美特提供手动和自动样品制备机——从小型台式圆盘平面磨床到自动铣床。有了凯美特样品制备机,您会觉得自己已经准备好进行分析。

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